一、    报告题目：Al/SiC 多层膜的表征
　　二、    报 告 人：Dr. Karine Le Guen
　　三、    单    位：Laboratoire Chimie Physique - Matière Rayonnement, UPMC CNRS UMR 7614, Paris, France
　　四、    时    间：2009年6月1日（星期一）上午10：00
　　五、    地    点：物理系512学术会议室


　　摘要：
　　由于Al在极紫外波段17.1nm有吸收边，所以基于Al/SiC多层膜在该波段将有很高的反射率，具有潜在的应用前景。为了深入了解Al/SiC多层膜界面状态，本报告将介绍采用X射线反射光谱方法测量膜层结构中Al原子和Si原子K线的形状，确定了其化学状态。在软X射线和硬X射线波段，本文使用了反射仪（ XRR ），确定了膜系的厚度和表面粗糙度等结构参数。最后，本文采用了飞行时间二次离子质谱(TOF-SIMS)，研究了膜层材料的深度分布。还研究了在Al和SiC的界面之间添加W、Mo的薄层对Al/SiC多层膜界面粗糙度的影响。