当前位置: 首页 > > 正文

(11月21日)溅射薄膜沉积与离子束抛光——技术与设备

来源:物理系   时间:2010-11-18  浏览:
题   目:溅射薄膜沉积与离子束抛光——技术与设备
主讲人:Dr. Marian Haff.(德国Roth&Rau MicroSystems公司)
时   间:11月21日(周日),上午9:00-12:00
地   点:物理馆512会议室

联系我们

    上海市四平路1239号 021-65982200

   

沪ICP备10014176号    沪公网安备:31009102000038号    沪举报中心

Baidu
map