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(10月26日)化学系学术报告

来源:化学系   时间:2009-10-26  浏览:

主 讲 人:Prof. Daniel MORVAN 
             (法国国立巴黎高等化学学校教授、巴黎高科“50名工程师”项目评委会主席)
时    间:10月26日(星期一)下午13:30
地    点:化学馆120多媒体报告厅
讲座内容:
      1、Purification of metallurgical grade silicon by thermal plasma for photoovoltaique application.
      2、Yttria-stabilised Zirconia thick coatings deposited from aqueous solution in a low pressure plasma reactor for aerospace application.
      3、Analyse of ultra pure silicon by LIBS: Laser Induced Breakdowm Spectroscopy . Detection limit of boron in silicon between 0.1 and 1 ppm.
 
欢迎感兴趣的师生前往参加。

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